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PECS II 精密刻蝕鍍膜儀

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PECS II精密刻蝕鍍膜儀是一款桌面型寬束氬離子拋光及鍍膜設(shè)備。內(nèi)置了一個(gè) 10 英寸的觸摸屏。不管新手還是專家級(jí)用戶,都可提高樣品的加工可控性 及可重復(fù)性。數(shù)碼變焦顯微鏡配合 DigitalMicrograph® 軟件,可實(shí)現(xiàn)對(duì)樣品加工過程的實(shí)時(shí) 監(jiān)控及儲(chǔ)存彩色照片,這便于在SEM中進(jìn)行樣品檢查和分析。

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PECS II精密刻蝕鍍膜儀




儀器簡介:

PECS II精密刻蝕鍍膜儀是一款桌面型寬束氬離子拋光及鍍膜設(shè)備。

對(duì)于同一個(gè)樣品,可在同一真空環(huán)境下完成拋光及鍍膜。

一款獨(dú)立、結(jié)構(gòu)緊湊的臺(tái)式設(shè) 備。采用兩個(gè)寬束氬離子源對(duì)樣品表面進(jìn)行拋光, 去除損傷層,從而得到高質(zhì)量樣品,用于在 SEM, 光鏡或者掃描探針顯微鏡上進(jìn)行成像、EDS、EBSD、CL、EBIC 或其它分析。

采用 WhisperLok®技術(shù),可選 配溫控液氮冷卻臺(tái)。該功能有助于避免拋光過程 中產(chǎn)生的熱量而導(dǎo)致的樣品融化或者結(jié)構(gòu)變化。

PECS II精密刻蝕鍍膜儀內(nèi)置了一個(gè) 10 英寸的觸摸屏。不管新手還是專家級(jí)用戶,都可提高樣品的加工可控性 及可重復(fù)性。數(shù)碼變焦顯微鏡配合 DigitalMicrograph® 軟件,可實(shí)現(xiàn)對(duì)樣品加工過程的實(shí)時(shí) 監(jiān)控及儲(chǔ)存彩色照片,這便于在SEM中進(jìn)行樣品檢查和分析。


性能優(yōu)點(diǎn):

  • WhisperLok 系統(tǒng): 無需破壞主樣品室真空即可裝卸樣品。
  • 低能聚焦潘寧離子槍可加工對(duì)表面損傷敏感的樣品,包括 EBSD和 CL。
  • 能量從0.1 – 8.0 keV可調(diào): 改進(jìn)低能拋光效果,減少非晶層;提供更高的能量,以提高拋光速度。
  • 液氮樣品冷卻 保護(hù)樣品,避免離子束熱損傷,去除可能的假象。
  • 10 英寸觸摸屏控制:快速,簡便地訪問所有的控制參數(shù);無需電腦。
  • 數(shù)碼變焦顯微鏡 實(shí)時(shí)監(jiān)控加工過程。
  • DigitalMicrograph 軟件彩照存儲(chǔ) 將存儲(chǔ)的光學(xué)圖像與其他分析系統(tǒng)的數(shù)據(jù)做關(guān)聯(lián)分析。
  • 濺射沉積 濺射靶材至樣品表面,防止樣品在 SEM/FIB 中發(fā)生荷電。



主要應(yīng)用:

  • 半導(dǎo)體
  • 金屬(氧化物,合金)
  • 陶瓷
  • 自然資源

技術(shù)規(guī)格:

離子源

離子槍
兩個(gè)配有稀土磁鐵的潘寧離子槍
拋光角度
0 到18°,每支離子槍可獨(dú)立調(diào)節(jié)
離子束能量 (kV)
0.1 – 8.0
離子束流密度峰值(mA/cm2)
10
拋光速率 (µm/h)
90(對(duì)于硅試樣)
離子束直徑
可用氣體流量計(jì)或放電電壓來調(diào)節(jié)
樣品臺(tái)

樣品大小(長 × 寬 ×高, mm)
32 × 15
轉(zhuǎn)速 (rpm)
1 – 6
離子束調(diào)制
角度范圍可調(diào)的單向調(diào)制或雙向調(diào)制
樣品觀察
數(shù)碼變焦顯微鏡,配有 PC 及 DigitalMicrograph 軟件(選配件)
真空系統(tǒng)

干泵系統(tǒng)
兩級(jí)隔膜泵支持 80 L/s的渦輪分子泵
壓力 (torr)

基本壓力
5 × 10-6
工作壓力
8 × 10-5
真空規(guī)
冷陰極型,用于主樣品室;固體型,用 于 前級(jí)機(jī)械泵
樣品氣鎖
WhisperLok技術(shù),樣品交換時(shí)間小于1 分鐘
用戶界面

10 英寸彩色觸摸屏
操作簡單,且能夠控制所有參數(shù)和配方式操作
尺寸及使用要求

外形尺寸 (長 × 寬× 高, mm)
575 × 495 × 615
運(yùn)輸重量(kg)
45
功耗 (W)

運(yùn)行時(shí)
200
待機(jī)時(shí)
100
電源要求
通用 100 – 240 VAC,50/60 Hz(用戶電壓和頻率)
氬氣(psi)
25


訂貨編號(hào):LR-200636




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