1. 產(chǎn)品名稱及型號(hào)： X射線金屬成份分析光譜儀X－1200系列
2. 制造商：深圳市啟誠儀器設(shè)備有限公司
3. 產(chǎn)品圖片：
4. 工作條件
n 工作溫度：15-30℃
n 相對(duì)濕度：≤80%
n 電 源：AC: 220V ±5V
n 功 率：300W + 550W
5. 技術(shù)性能及指標(biāo):
n 元素分析范圍從鈉(Na)到鈾(U)；
n 元素含量分析范圍為1ppm到99%；
n 測(cè)量時(shí)間：40-120秒；
n 主含量多次測(cè)量重復(fù)性可達(dá)0.1％；
n 多準(zhǔn)直器自動(dòng)交換，滿足更多分析要求；
n 探測(cè)器能量分辨率為125±5eV；
n 溫度適應(yīng)范圍為15℃~30℃；
n 電源：交流220V±5V（建議配置交流凈化穩(wěn)壓電源。）；
n 多變量非線性去卷積曲線擬合；
n 高斯平滑濾波校正；
n 高性能FP軟件、MLSQ分析；
n 一次可同時(shí)分析25個(gè)元素；
n 直接檢測(cè)，不需要前處理，數(shù)據(jù)實(shí)時(shí)顯示；操作簡單方便；
三、產(chǎn)品配置、功能、分析精度及穩(wěn)定性
（一）產(chǎn)品配置：
1.硬件：主機(jī)壹臺(tái)，含下列主要部件：
(1) X光管；
(2) 電制冷半導(dǎo)體探測(cè)器（SDD）；
(3) 高壓電源；
(4) 準(zhǔn)直器（多準(zhǔn)直器自動(dòng)更換）；
(5) 控制系統(tǒng)；
(6) 濾光片；
(7) 樣品臺(tái)；
(8) 樣品腔 195mm*195mm×50mm ；
(9) 儀器尺寸 590*400*370mm
(10）真空泵/SMC真空電磁閥/真空壓力表等
2. 軟件：啟誠X熒光光譜儀成份分析軟件V6.0
3. 計(jì)算機(jī)一臺(tái)：品牌：聯(lián)想
注：如需選配打印機(jī)和穩(wěn)壓電源，價(jià)格需另計(jì)。
（二）功能、分析精度及穩(wěn)定性(以銅合金為例)：
銅合金成份分析;
同時(shí)可擴(kuò)展分析鎂合金、鋁合金、鐵合金、鉛錫合金等其他合金，需要時(shí)需做必要的技術(shù)交流。
暫時(shí)不能分析元素H, He, Li, Be, B, C, N, O；
分析精度及穩(wěn)定性：
1）F、Cl、Br、I的檢測(cè)（項(xiàng)目要求可針對(duì)產(chǎn)品RoHS檢測(cè)要求）這些元素的檢測(cè)限為1-3pmm對(duì)這些金屬測(cè)試分析穩(wěn)定的讀取允許差值本儀器已達(dá)到下列標(biāo)準(zhǔn)：
A. 檢測(cè)含量大于5%的元素穩(wěn)定的測(cè)試讀取差值小于0.1%
B. 檢測(cè)含量在0.5～5%的元素穩(wěn)定的測(cè)試讀取差值小于0.05%
C. 檢測(cè)含量在0.1～0.5%的元素穩(wěn)定的測(cè)試讀取差值小于0.03%
D. 檢測(cè)含量低于0.1%的元素測(cè)試讀取變化率小于10%
2） Cu, Zn, Fe, Ni, Pb, Mn, Ti, W, Au, Ag, Hg,Sn等重金屬含量的檢測(cè)限達(dá)10～20ppm，對(duì)這些金屬測(cè)試分析穩(wěn)定的讀取允許差值本儀器已達(dá)到下列標(biāo)準(zhǔn)：
A. 檢測(cè)含量大于5%的元素穩(wěn)定的測(cè)試讀取差值小于0.1%
B. 檢測(cè)含量在0.5～5%的元素穩(wěn)定的測(cè)試讀取差值小于0.05%
C. 檢測(cè)含量在0.1～0.5%的元素穩(wěn)定的測(cè)試讀取差值小于0.03%
D. 檢測(cè)含量低于0.1%的元素測(cè)試讀取變化率小于10%
3） Mg，Al,Cr,Cd, P, Br,S, Si, As等金屬成份含量的檢測(cè)限達(dá)30ppm，對(duì)這些金屬測(cè)試分析穩(wěn)定的讀取允許差值本儀器已達(dá)到下列標(biāo)準(zhǔn)：
A. 檢測(cè)含量大于5%的元素穩(wěn)定的測(cè)試讀取差值小于0.1%
B. 檢測(cè)含量在0.5～5%的元素穩(wěn)定的測(cè)試讀取差值小于0.05%
C. 檢測(cè)含量在0.1～0.5%的元素穩(wěn)定的測(cè)試讀取差值小于0.03%
D. 檢測(cè)含量低于0.1%的元素測(cè)試讀取變化率小于10%
4）. 鋼鐵材料中除C，S外的元素分析；
5）. 可以檢測(cè)分析樣品狀態(tài)：液體，固體，粉末。
四、產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)及軟件說明
（一）. 產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)
1． 可進(jìn)行氯、溴離子檢測(cè)、金屬離子分析檢測(cè)，一機(jī)多用省投資
2． 可檢測(cè)固體、液體、粉末狀態(tài)材料
3． 能檢測(cè)分析多達(dá)60多種元素，一次檢測(cè)可顯示25種元素針對(duì)銅、鐵、鋅、不銹鋼等任意基體做成分分析
4． 運(yùn)行及維護(hù)成本低、無易損易耗品，對(duì)使用環(huán)境相對(duì)要求低
5． 可進(jìn)行未知標(biāo)樣掃描、無標(biāo)樣定性，半定量分析
6． 操作簡單、易學(xué)易懂、精準(zhǔn)無損、高品質(zhì)、高性能、高穩(wěn)定性，快速出檢測(cè)結(jié)果（40-120秒）
7． 可針對(duì)客戶個(gè)性化要求量身定做輔助分析配置硬件
8． 軟件升級(jí)
9． 眾多，媲美國外發(fā)達(dá)國家之同類設(shè)備
10．無損檢測(cè)，一次性購買標(biāo)樣可使用
11．使用安心無憂，售后服務(wù)響應(yīng)時(shí)間24H以內(nèi)，提供保姆式服務(wù)
（二）軟件說明
1．儀器工作原理說明
l XRF就是X射線熒光光譜分析儀(X Ray Fluorescence Spectrometer) 。 人們通常把X射線照射在物質(zhì)上而產(chǎn)生的次級(jí)X射線叫X射線熒光 ，而把用來照射的X射線叫原級(jí)X射線。
l 當(dāng)能量高于原子內(nèi)層電子結(jié)合能的高能X射線與原子發(fā)生碰撞時(shí)，驅(qū)逐一個(gè)內(nèi)層電子而出現(xiàn)一個(gè)空穴，使整個(gè)原子體系處于不穩(wěn)定的激發(fā)態(tài)，激發(fā)態(tài)原子壽命約為10-12~10-14S，然后自發(fā)地由能量高的狀態(tài)躍遷到能量低的狀態(tài)。
l 當(dāng)較外層的電子躍入內(nèi)層空穴所釋放的能量不在原子內(nèi)被吸收，而是以輻射形式放出，便產(chǎn)生X射線熒光(特征X射線)，其能量等于兩能級(jí)之間的能量差。
l 特征X射線熒光產(chǎn)生： 碰撞→躍遷↑(高) →空穴→躍遷↓(低)
l 不同元素發(fā)出的特征X射線熒光能量和波長各不相同，因此通過對(duì)其的能量或者波長的測(cè)量即可知道它是何種元素發(fā)出的，進(jìn)行元素的定性分析。線強(qiáng)度跟這元素在樣品中的含量有關(guān)，因此測(cè)出它的強(qiáng)度就能進(jìn)行元素的定量分析。
l 通過實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證，在一定范圍內(nèi)，鍍層越厚，測(cè)試的X熒光的強(qiáng)度越大；但當(dāng)鍍層厚度達(dá)到一定值時(shí)，測(cè)試的X熒光的強(qiáng)度將不再變化。換而言之，就是鍍層厚度測(cè)試是有限的，過厚的鍍層樣品將被視為無限厚。
l 由于X射線具有穿透性，多鍍層分析時(shí)，每一層的特征X射線在出射過程中，都會(huì)互相產(chǎn)生干擾。隨著鍍層層數(shù)的增加，越靠近內(nèi)層的鍍層的檢測(cè)誤差越大；同時(shí)外層鍍層由于受到內(nèi)層鍍層的影響，測(cè)試精度也將大大下降。為解決多鍍層的影響，在實(shí)際應(yīng)用中，多采用實(shí)際相近的鍍層樣品進(jìn)行比較測(cè)量（即采用標(biāo)準(zhǔn)曲線法進(jìn)行對(duì)比測(cè)試的方法）來減少各層之間干擾所引起的測(cè)試精度問題。
2. 軟件工作架構(gòu)圖
X－1200型號(hào)光譜儀采用了目前國際上的軟件算法，基本參數(shù)法（FP），在多種類合金分析中，適應(yīng)性更廣。啟誠公司經(jīng)過近10年的開發(fā)和完善，使軟件已經(jīng)具備了完善的使用內(nèi)容外，還具備強(qiáng)大的教學(xué)和科研開發(fā)功能。
下面是關(guān)于光譜儀和軟件的簡單介紹：
X-1200型號(hào)光譜儀軟件算法的主要處理方法
1) Smoothing譜線光滑處理
2) Escape Peak Removal 逃逸峰去除
3) Sum Peak Removal 疊加峰去除
4) Background Removal 背景勾出
5) Blank Removal 空峰位去除
6) Intensity Extraction 強(qiáng)度提取
7) Peak Integration 圖譜整合
8) Peak Overlap Factor Method 波峰疊加因素方法
9) Gaussian Deconvolution 高斯反卷積處理
10) Reference Deconvolution 基準(zhǔn)反卷積處理
軟件開發(fā)的過程中我們參考了如下文獻(xiàn)（FP References）
(a) “Principles and Practice of X-ray Spectrometric Analysis,” 2nd Edition, by E.P. Bertin, Plenum Press, New York, NY (1975).
(b) “Principles of Quantitative X-Ray Fluorescence Analysis,” by R. Tertian and F. Claisse, Heyden & Son Ltd., London, UK (1982).
(c) “Handbook of X-Ray Spectrometry: Methods and Techniques,” eds. R.E. van Grieken and A.A. Markowicz, Marcel Dekker, Inc., New York (1993).
(d)“An Analytical Algorithm for Calculation of Spectral Distributions of X-Ray Tubes for Quantitative X-Ray Fluorescence Analysis,” P.A. Pella, L. Feng and J.A. Small, X-Ray Spectrometry 14 (3), 125-135 (1985).
(e)“Addition of M- and L-Series Lines to NIST Algorithm for Calculation of X-Ray Tube Output Spectral Distributions,” P.A. Pella, L. Feng and J.A. Small, X-Ray Spectrometry 20, 109-110 (1991).
(f)“Quantification of Continuous and Characteristic Tube Spectra for Fundamental Parameter Analysis,” H. Ebel, M.F. Ebel, J. Wernisch, Ch. Poehn and H. Wiederschwinger, X-Ray Spectrometry 18, 89-100 (1989).
(g)“An Algorithm for the Description of White and Characteristic Tube Spectra (11 ≤ Z ≤ 83, 10keV ≤ E0 ≤ 50keV),” H. Ebel, H. Wiederschwinger and J. Wernisch, Advances in X-Ray Analysis, 35, 721-726 (1992).
(h)“Spectra of X-Ray Tubes with Transmission Anodes for Fundamental Parameter Analysis,” H. Ebel, M.F. Ebel, Ch. Poehn and B. Schoβmann, Advances in X-Ray Analysis, 35, 721-726 (1992).
(i)“Comparison of Various Descriptions of X-Ray Tube Spectra,” B. Schoβmann, H. Wiederschwinger, H. Ebel and J. Wernisch, Advances in X-Ray Analysis, 39, 127-135 (1992).
(j)“Relative Intensities of K, L and M Shell X-ray Lines,” T.P. Schreiber & A.M. Wims, X-Ray Spectrometry 11(2), 42 (1982).
(k)“Calculation of X-ray Fluorescence Cross Sections for K and L Shells,” M.O. Krause, E.Ricci, C.J. Sparks and C.W. Nestor, Adv. X-ray Analysis, 21, 119 (1978).
(l)X-Ray Data Booklet, Center for X-ray Optics, ed. D. Vaughan, LBL, University of California, Berkeley, CA 94720 (1986).
(m) “Revised Tables of Mass Attenuation Coefficients,” Corporation Scientifique Claisse Inc., 7, 1301 (1977).
(n)"Atomic Radiative and Radiationless Yields for K and L shells," M.O. Krause, J. Phys. Chem. Reference Data 8 (2), 307-327 (1979).
(o)“The Electron Microprobe,” eds. T.D. McKinley, K.F.J. Heinrich and D.B. Wittry, Wiley, New York (1966).
(p)“Compilation of X-Ray Cross Sections,” UCRL-50174 Sec II, Rev. 1, Lawrence Radiation Lab., University of California, Livermore, CA (1969).
(q)“X-ray Interactions: Photoabsorption, Scattering, Transmission, and Reflection at E = 50-30,000 eV, Z = 1-92,” B.L. Henke, E.M. Gullikson and J.C. Davis, Atomic Data and Nuclear Tables, 54, 181-342 (1993).
(r)“Reevaluation of X-Ray Atomic Energy Levels,” J.A. Bearden and A.F. Burr, Rev. Mod. Phys., 39 (1), 125-142 (1967).
(s)“Fluorescence Yields, ?k (12 ≤ Z ≤ 42) and ?l3 (38 ≤ Z ≤ 79), from a Comparison of Literature and Experiments (SEM),” W. Hanke, J. Wernisch and C. Pohn, X-Ray Spectrometry 14 (1),43 (1985).
(t)“Least-Squares Fits of Fundamental Parameters for Quantitative X-Ray Analysis as a Function of Z (11 ≤ Z ≤ 83) and E (1 ≤ E ≤ 50 keV),” C. Poehn, J. Wernisch and W. Hanke, X-Ray Spectrometry 14 (3),120 (1985).
(u)“Calculation of X-Ray Fluorescence Intensities from Bulk and Multilayer Samples,” D.K.G. de Boer, X-Ray Spectrometry 19, 145-154 (1990).
(v)“Theoretical Formulas for Film Thickness Measurement by Means of Fluorescence X-Rays,” T. Shiraiwa and N. Fujino, Adv. X-Ray Analysis, 12, 446 (1969).
(w)“X-Ray Fluorescence Analysis of Multiple-Layer Films,” M. Mantler, Analytica Chimica Acta, 188, 25-35 (1986).
(x)“General Approach for Quantitative Energy Dispersive X-ray Fluorescence Analysis Based on Fundamental Parameters,” F. He and P.J. Van Espen, Anal. Chem., 63, 2237-2244 (1991).
(y)“Quantitative X-Ray Fluorescence Analysis of Single- and Multi-Layer Thin Films,” Thin Solid Films 157, 283 (1988).
(z)“Fundamental-Parameter Method for Quantitative Elemental Analysis with Monochromatic X-Ray Sources,” presented at 25th Annual Denver X-ray Conference, Denver, Colorado (1976).
3．軟件界面
1）圖譜界面
圖譜界面可以任意調(diào)整大小，便于在研發(fā)過程中盲樣分析時(shí)對(duì)各種元素的尋找。
參數(shù)設(shè)定界面
包含了盡量多的參數(shù)設(shè)定窗口，可以方便使用人員，尤其是研發(fā)人員對(duì)軟件和分析結(jié)果狀態(tài)的了解。
