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JPK NanoWizard 4XP

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  • 公司名稱 武漢瑞德儀科技有限公司
  • 品牌
  • 型號(hào)
  • 所在地 武漢市
  • 廠商性質(zhì) 其他
  • 更新時(shí)間 2024/9/27 14:59:28
  • 訪問次數(shù) 52

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NanoWizard®系列是目前市場(chǎng)上和適用性的原子力顯微鏡。它建立了在液相中高分辨、超快速和高穩(wěn)定性成像的新。所有NanoWizard®系統(tǒng)都有技術(shù) DirectOverlay™ 可 與光學(xué)技術(shù)耦合,具有廣泛的適用性,可選擇不同應(yīng)用領(lǐng)域的功能附件

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原子力顯微鏡

關(guān)于JPK NanoWizard 4 XP

1)集高分辨、快速掃描和便捷性于一身

全新的NanoWizard® 4 XP NanoScience AFM融合閉環(huán)原子級(jí)分辨率與 100???μm 掃描器于一體。大范圍掃描器可以在樣品上進(jìn)行大范圍的精確移動(dòng),并直接訪問感興趣的特征區(qū)域。精密的機(jī)械工程與的電子設(shè)備提供了當(dāng)今市場(chǎng)上的穩(wěn)定性與的噪音水平,保證了杰出的高性能和可靠的高分辨成像。全新的Vortis™2 控制器采用的 FPGA 技術(shù),實(shí)現(xiàn)高速的信號(hào)處理與控制??蛇x的快掃功能提供高達(dá)150 Hz 線速率的掃描性能。

2PeakForce Tapping®——高質(zhì)量成像技術(shù)

PeakForce Tapping® 技術(shù)作為一種滿足您所有需求的成像模式已經(jīng)贏得了業(yè)界廣泛贊譽(yù)。無論是何種樣品、何種環(huán)境,該技術(shù)都可以提供的力控制和良好的易用性。該技術(shù)可以精確的控制探針與樣品之間的相互作用力,并可以的降低成像所需的作用力,從而保護(hù)探針與樣品,確保穩(wěn)定的、長(zhǎng)時(shí)間的高分辨成像。

3)杰出的易用性:快速獲取高質(zhì)量數(shù)據(jù)

JPKV7 軟件可以優(yōu)化工作流程,幫助加速科學(xué)成果產(chǎn)出。簡(jiǎn)單直觀的設(shè)置可以幫助初學(xué)用戶快速上手,獲得可靠且可重復(fù)的結(jié)果,節(jié)省了寶貴的研究時(shí)間。其靈活的工作理念使經(jīng)驗(yàn)豐富的用戶可以直接訪問專家功能和高級(jí)反饋模式,同時(shí)也可以使用一鍵校準(zhǔn)和簡(jiǎn)化設(shè)置以提升產(chǎn)出效率

4)大掃描器快速掃描的新基準(zhǔn)

經(jīng)過驗(yàn)證的 JPK 快速掃描技術(shù)現(xiàn)在已經(jīng)可以用于NanoWizard® 4 XP NanoScience AFM 平臺(tái)。該系統(tǒng)兼具 150 Hz 的線掃描速率與大掃描范圍,可提供的優(yōu)異性能。它為所有組件提供了的帶寬,精確的力控制和快速的反饋。以前的快速掃描受到掃描范圍的限制,只能在很有限的

掃描范圍內(nèi)才可以實(shí)現(xiàn)快速掃描。如今,大掃描范圍下的掃描速度成為變?yōu)楝F(xiàn)實(shí),消除了 XY 方向大范圍掃描和Z方向大落差掃描的限制。完整的 100 μm×100?μm 橫向掃描范圍仍可以應(yīng)用的測(cè)量速度,用戶可以輕松的在樣品特征位置之間切換,而無需重新定位樣品或犧牲成像速度。使用全新的 NestedScanner™ 技術(shù),現(xiàn)在可以對(duì)高度差可達(dá)16.5μm 的結(jié)構(gòu)表面進(jìn)行快速成像。研究人員可以在大起伏或陡峭樣品表面以空間時(shí)間分辨率進(jìn)行動(dòng)態(tài)過程研究。

5)高通量與動(dòng)態(tài)觀察——材料學(xué)研究的利器

快速掃描功能提供了實(shí)時(shí)高分辨研究所需的速度和準(zhǔn)確性,可以幫助理解結(jié)晶、生長(zhǎng)、熔化、相分離、疇狀結(jié)構(gòu)產(chǎn)生或島結(jié)構(gòu)的形成等現(xiàn)象。JPK 的探針掃描設(shè)計(jì),允許使用各種 NanoWizard ® 環(huán)境控制附件,這些附件可以加熱或冷卻樣品,交換氣體或液體,或者對(duì)樣品施加外部機(jī)械力。

6)擴(kuò)展測(cè)量加快研究進(jìn)程

快速掃描功能與 ExperimentPlanner™ 軟件功能結(jié)合使用,基于此用戶可以利用兼容的電動(dòng)載物臺(tái)自動(dòng)的將樣品從一個(gè)感興趣的區(qū)域移至下一個(gè)感興趣的區(qū)域,從而快測(cè)量多個(gè)位置并大大提升產(chǎn)出效率。優(yōu)化的視頻制作工具使得數(shù)據(jù)處理比以往任何時(shí)候都更加容易。

快速掃描功能的優(yōu)勢(shì)

a提升產(chǎn)出效率:

快速獲取數(shù)據(jù)并對(duì)多個(gè)區(qū)域進(jìn)行快速測(cè)量

b使用NestedScanner™ 技術(shù)

 對(duì)高落差或大起伏樣品表面進(jìn)行快速測(cè)量

c樣品動(dòng)態(tài)過程實(shí)時(shí)觀察分析

d聚合物、薄膜或其他功能材 料的延時(shí)觀察與分析

7)多種電學(xué)測(cè)量模式---對(duì)樣品進(jìn)行電學(xué)表征

NanoWizard® 4 XP NanoScience AFM 擁有多種工作模式與附件的支持,工作模式與附件有著易于操作的設(shè)計(jì),可滿足研究人員個(gè)性化的需求。多種材料材料表征(包括電學(xué)表征)可以在密閉樣品池中進(jìn)行,以實(shí)現(xiàn)惰性氣體氣氛環(huán)境下的測(cè)量。

a導(dǎo)電原子力顯微鏡(CAFM)

b開爾文探針原子力顯微鏡 (KPM AFM)

c電化學(xué) (EC) 與掃描電化學(xué) (SECM)

d掃描隧道電流顯微鏡 (STM)

e基于高級(jí) QI™ 模式的掃描熱原子力顯微鏡 (SThM)

f壓電力響應(yīng)顯微鏡 (PFM)

g靜電力顯微鏡(EFM

h磁力顯微鏡(MFM)

8)追尋樣品的特征——樣品分析就在彈指之間

a易用性新標(biāo)準(zhǔn)兼顧質(zhì)量與效率

全新的V7操作軟件為實(shí)驗(yàn)提供了直觀的工作流程。輕松選擇預(yù)定義實(shí)驗(yàn)或最近使用實(shí)驗(yàn),結(jié)合一鍵探針校準(zhǔn),可實(shí)現(xiàn)快速的實(shí)驗(yàn)導(dǎo)航與數(shù)據(jù)采集。上下文關(guān)聯(lián)的幫助提示,對(duì)調(diào)整與設(shè)置的狀態(tài)實(shí)時(shí)反饋,可以輕松地獲取有價(jià)值的數(shù)據(jù)同時(shí)直觀地監(jiān)測(cè)關(guān)鍵參數(shù)。

b智能自動(dòng)化測(cè)試加速產(chǎn)出效率

也的導(dǎo)航方式即直接可視化您感興趣的區(qū)域。全新 DirectOverlay™2 提供了即時(shí)導(dǎo)航界面,可直接選取掃描器允許范圍內(nèi)任何的位置進(jìn)行測(cè)量。馬達(dá)驅(qū)動(dòng)精密位移樣品臺(tái)和 HybridStage™ 可以解除AFM掃描器掃描范圍對(duì)導(dǎo)航范圍的約束,實(shí)現(xiàn)通過電動(dòng)馬達(dá)直接移動(dòng)到選定的位置。全新的 DirectTiling功能可以自動(dòng)創(chuàng)建大范圍的光學(xué)導(dǎo)航成像,以加速自動(dòng)化測(cè)試過程。MultiScan 功能可以拼接高分辨圖像,已建立樣品的全面概覽。重復(fù)性或復(fù)雜程序性測(cè)試可以使用 ExperimentPlanner™生成宏命令自動(dòng)執(zhí)行。

c基于 QI™ 模式和力曲線成像模式---強(qiáng)大的定量力學(xué)性能分析

高級(jí) QI™ 模式使用線性運(yùn)動(dòng)的力曲線,可以輕松獲得分辨率的形貌成像,同時(shí)獲得力學(xué)和電學(xué)性質(zhì)信息。每個(gè)像素點(diǎn)包含了對(duì)樣品彈性、黏附力、耗散、化學(xué)相互作用或?qū)щ娦赃M(jìn)行完整定量分析所需的所有數(shù)據(jù)。軟件擁有強(qiáng)大的批處理功能,全面的擬合設(shè)置與具有多種模型的模量擬合功能可提供的性能。NanoWizard® 4 XP 同時(shí)還提供了快速力曲線成像模式、單分子力譜以及單細(xì)胞力譜模式。

 

全面的納米力學(xué)測(cè)量模式

a具有接觸點(diǎn)成像 (CPI) 的高級(jí) QI™ 模式

bRampDesigner™ 用于復(fù)雜力譜實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì)

c快速力曲線成像模式

d微觀流變學(xué)測(cè)量

e摩擦力顯微鏡

f接觸共振成像

g高次諧波成像(振幅調(diào)制、相位調(diào)制以及振幅調(diào)制)

h力調(diào)制模式

i納米壓痕與納米操縱

9)全面的環(huán)境控制方案------為各種高級(jí)應(yīng)用保駕護(hù)航

   a溫度控制配件

   b電化學(xué)配件

   c小體積樣品池配件

   d液體/氣體氛圍控制配件用于電學(xué)性質(zhì)表征

10)一款真正的多用途平臺(tái)------滿足您持續(xù)增長(zhǎng)的需求

a靈活性與模塊化設(shè)計(jì):

現(xiàn)代實(shí)驗(yàn)室研究的基本要求NanoWizard® 系列 AFM 以其模塊化的設(shè)計(jì)理念而聞名,可限度的滿足所有組件的兼容性。AFM 掃描頭可以兼容多代附件、樣品臺(tái)與功能模塊,確保能效的延續(xù)性并實(shí)現(xiàn)成本經(jīng)濟(jì)的軟硬件功能升級(jí),從而使 NanoWizard® 4 XP 具有極大的靈活性,可以滿足用戶不斷變化的應(yīng)用需求。NanoWizard® 4 XP 是迄今為止功能最多的 AFM 系統(tǒng),它提供了的光學(xué)集成以及數(shù)量的功能配件與工作模式,易于升級(jí)的特點(diǎn)確保其跟上功能革新與技術(shù)發(fā)展

的步伐。

b簡(jiǎn)潔經(jīng)濟(jì)高效的升級(jí)方案

*Vortis™ 2 控制器或可選的高級(jí) Vortis™ 2 控制器

*多種不同的測(cè)量頭

*強(qiáng)大的軟件功能模塊

*數(shù)量的功能配件與工作模式

c可在多種模式下施加不同外部刺激------實(shí)時(shí)控制樣品狀態(tài)

*可施加高壓的壓電力響應(yīng)顯微鏡 (PFM)

*StretchingStage 施加外部機(jī)械荷載

*外加磁場(chǎng)

*電化學(xué)實(shí)驗(yàn)(以及掃描電化學(xué)顯微鏡)控制液體電勢(shì)差

*納米刻蝕與納米操縱實(shí)現(xiàn)局部力學(xué)控制

*電導(dǎo)原子力顯微鏡實(shí)現(xiàn)光刺激

d樣品訪問與易用性新亮點(diǎn)

*TopViewOptics™ 模塊: 用于不透明樣品的位置導(dǎo)航,同時(shí)兼容在倒置光學(xué)顯微鏡上使用。

*Head-up 樣品臺(tái): 適用于可達(dá) 14 cm的高大樣品。

*HybridStage: 馬達(dá)驅(qū)動(dòng)的樣品掃描結(jié)合三軸壓電陶瓷驅(qū)動(dòng)的樣品掃描(z方向不小于 100 μm) 實(shí)現(xiàn)樣品大范圍精確定位與樣品掃描。

e高級(jí)光學(xué)應(yīng)用集成

      *倒置光學(xué)顯微鏡

                      **寬場(chǎng)與共聚焦 (CLSM) 熒光

                      **光學(xué)超分辨技術(shù) (STED, TIRF, PALM / STORM)

                      **熒光光譜技術(shù) (FLIM, FRET, FCS, FRAP ...)

                      **拉曼光譜技術(shù)

                      **樣品側(cè)視成像 (50倍物鏡)

     *正置光學(xué)顯微鏡

                      **正置熒光顯微鏡套件 (UFK)

                      **BioMAT™ 生物材料工作站

     *近場(chǎng)光學(xué)測(cè)量技術(shù)(包括 TERS 技術(shù))

 


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