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C-25X200型4英寸/C-25X200型6英寸 C-25X200型 4英寸/6英寸 單面光刻機(jī) 精密光刻設(shè)備

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C-25X200型 4英寸/6英寸 單面光刻機(jī) 精密光刻設(shè)備

 

主要用途:

  本機(jī)針對(duì)各大專院校、企業(yè)及科研單位。對(duì)光刻機(jī)使用特性研發(fā)的一種高精度的光刻機(jī),三層減震,組合式,拆卸方便。

  它主要用于中小規(guī)模集成電路、半導(dǎo)體元器件、光電子器件、聲表面波器件、薄膜電路、電力電子器件的研制和生產(chǎn),適合硅片、玻璃片、陶瓷片、銅片、不銹鋼片、寶石片的曝光,而且也適合易碎片如:砷化鉀、磷化銦的曝光以及非圓形基片和小型基片的曝光。

 

主要性能指標(biāo):

1. 多種版夾盤(pán)

C-25X200型4英寸光刻機(jī)有四種版夾盤(pán),能真空吸附5" ×5"或4" ×4"或3" ×3"或2.5" ×2.5"方形掩板。對(duì)版的厚度無(wú)特殊要求(1~4mm皆可)。

C-25X200型6英寸光刻機(jī)有六種版夾盤(pán),能真空吸附7" ×7"或6" ×6"或5" ×5"或4" ×4"或3" ×3"或2.5" ×2.5"方形掩板。對(duì)版的厚度無(wú)特殊要求(1~4mm皆可)。

 

2. 真空吸附基片的“承片臺(tái)”

C-25X200型4英寸光刻機(jī)設(shè)有相對(duì)應(yīng)的真空吸附基片的“承片臺(tái)”三個(gè),分別適用于φ2、φ3、φ4片。對(duì)于非標(biāo)準(zhǔn)片或碎片,只要堵塞相應(yīng)的小孔,同樣能真空吸附。

C-25X200型6英寸光刻機(jī)設(shè)有相對(duì)應(yīng)的真空吸附基片的“承片臺(tái)”五個(gè),分別適用于φ2、φ3、φ4、φ5、φ6片。對(duì)于非標(biāo)準(zhǔn)片或碎片,只要堵塞相應(yīng)的小孔,同樣能真空吸附。

 

3. 照明

光源:采用GCQ350Z型超高壓水銀直流汞燈。

照明范圍:≤ф100mm

不均勻性:ф100mm內(nèi)±3%

可使用的波長(zhǎng):g線、h線、I線的組合。根據(jù)用戶要求,可增加I線濾光片。

成象面照明:光照度10~15毫瓦/厘米2,任意可調(diào)(出廠時(shí),照明度調(diào)在10mw/cm2)。
曝光分辨率:1μm

對(duì)準(zhǔn)精度: 1μm

套刻精度: 1μm

 

4. 采用進(jìn)口時(shí)間繼電器(該繼電器可從0.1秒∽999.9秒預(yù)設(shè))控制氣動(dòng)快門(mén),動(dòng)作準(zhǔn)確可靠。

 

5. 該機(jī)為接觸式曝光機(jī),但可實(shí)現(xiàn):

硬接觸曝光:用管道真空來(lái)獲得高真空接觸。真空≤-0.05MPa。

軟接觸曝光:接觸壓力可將真空降到-0.02MPa -0.05MPa之間。

微力接觸曝光:小于軟接觸。真空≥-0.02MPa。

 

6. 分辯率估計(jì)

如果用戶的“版”、“片”精度符合國(guó)家規(guī)定,環(huán)境、溫度、濕度、塵埃得到嚴(yán)格控制,采用進(jìn)口正性光刻膠,且勻膠厚度得到嚴(yán)格控制。加之前后工藝的話,硬接觸曝光的最小分辨度可達(dá)1μm以上

 

7. 對(duì)準(zhǔn)

觀察系統(tǒng)為兩個(gè)單筒顯微鏡上裝二個(gè)CCD攝像頭,通過(guò)視屏線連接到顯視屏上。

a.單筒顯微鏡為0.7X~4.5X連續(xù)變倍顯微鏡(也可為1.6X~10X)。

b.CCD攝像機(jī)靶面對(duì)角線尺寸為:1/3,(6mm);

c.采用19"液晶監(jiān)視器,其數(shù)字放大倍率為19÷1/3=57倍;

d.觀察系統(tǒng)放大倍數(shù)為:0.7×57≈40倍(最小倍數(shù)),4.5×57≈256倍(倍數(shù))或(91倍~570倍)。

對(duì)準(zhǔn)臺(tái):(采用片動(dòng),版不動(dòng)方式)

X、Y調(diào)整:±5mm。

θ調(diào)整:轉(zhuǎn)角≤5°

對(duì)準(zhǔn)間隙(分離間隙)0~5mm任意可調(diào)。

整個(gè)對(duì)準(zhǔn)臺(tái)相對(duì)于顯微鏡可作±20mm掃描運(yùn)動(dòng)。

“接觸、分離”20μm情況下,片相對(duì)于版的“漂移量”,可調(diào)到≤±0.5μm。

 

8. 設(shè)備所需能源:

主機(jī)電源: 220V±10%   50HZ

潔凈空氣≥0.4MPα。

真空:-0.07~-0.08MPα。

 

9. 尺寸和重量:

尺寸:機(jī)體720 mm(長(zhǎng))×720 mm(寬)×882mm(高)。

重量:≤100Kg。

機(jī)體放在專用工作臺(tái)上。

工作臺(tái):1100 mm(長(zhǎng))×750 mm(寬)×645 mm(高)。

高度可調(diào)范圍0~30mm。

重量50Kg(工作臺(tái)后側(cè)裝有電氣部分)。

總重量≤200Kg

 

10. C-25X200型光刻機(jī)的組成

主機(jī)

主機(jī)(含機(jī)體和工作臺(tái))

對(duì)準(zhǔn)用單筒顯微鏡

蠅眼曝光頭

附件

主機(jī)附件

3"□型掩版夾盤(pán)

4"□型掩版夾盤(pán)(出廠時(shí)安裝到機(jī)器上)

用于2"基片的真空夾持承片臺(tái)。

用于3"基片的真空夾持承片臺(tái)(出廠時(shí)安裝到機(jī)器上)

(若需特殊的基片承片臺(tái),訂貨時(shí)用戶提出)

顯微鏡組成

單筒顯微鏡二個(gè)

兩個(gè)CCD

視頻連接線。

計(jì)算機(jī)和22"液晶監(jiān)視器。

 

 

 


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